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"Blende" auf der Imaging Expo China P & E 2004 in Peking

Die Wanderausstellung "Blende", die auf der photokina 2002 in Köln erstmalig gezeigt wurde, war anläßlich der Imaging Expo China P & E 2004 vom 10. bis 13. April in Peking im "German Pavilion" zu sehen und fand bei den Messebesuchern großes Interesse.

Die Photo- und Imagingmesse "Imaging Expo China P & E 2004" für den stark wachsenden chinesischen Markt zählte insgesamt 67.000 Besucher, davon nahezu 70% Fachbesucher. Auf einer Standfläche von insgesamt 8.000 Quadratmetern zeigten 250 Aussteller die aktuellen Produkte und Innovationen. Der hohe Anteil der Besucher aus dem Handel und der Fachpresse ist auch auf das professionelle Marketing des Mitveranstalters Koelnmesse zurückzuführen.

Der CIPHO - Chemieverband Imaging und Photo e.V., Frankfurt a.M., hat mit Unterstützung der deutschen Bundesregierung und des Photoindustrie-Verbandes zum ersten Mal einen Gemeinschaftsstand deutscher Hersteller im "German Pavilion" durchgeführt. Betreut wurde dieser Gemeinschaftsstand von der Koelnmesse International. An dem Gemeinschaftsprojekt waren 10 Unternehmen beteiligt, die die Messe als sehr erfolgreich bewerteten. Insbesondere die Qualität und Anzahl der Fachbesucher wurden hervorgehoben. Die Mehrzahl der beteiligten Unternehmen hat sich bereits dazu entschlossen, auch im Jahr 2005 an der Imaging Expo in China teilzunehmen. Diese Veranstaltung wird in der ersten Hälfte 2005 stattfinden.

GfK Asia hat gemeinsam mit den photokina-Veranstaltern ein Market-Briefing für die professionellen Fachbesucher aus China und den benachbarten asiatischen Ländern durchgeführt, welches ebenfalls auf ein sehr großes Interesse gestoßen ist. Anhand detaillierter Marktstudien wurden Produkt- und Absatzentwicklungen im chinesischen und asiatischen Markt präsentiert.
 

Blende Informationen A-Z 04 / 2004

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