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Hasselblad Masters zur Visual Gallery 2010

Ambitionen, Ideenreichtum und fotografisch-technische Fähigkeiten

Mit den „Hasselblad Masters“ ist es der Visual Gallery im Rahmen der photokina (21.-26. September 2010) gelungen, eine der renommiertesten Fotografen-Auszeichnungen der Welt nach Köln zu holen. Gezeigt werden die Arbeiten der zehn Hasselblad Masters 2009, die nach einem rigorosen und anspruchsvollen Ausleseverfahren aus über 3.000 Teilnehmern hervorgegangenen sind. Zu sehen sind die faszinierenden Bilder von zehn Meisterfotografen aus aller Welt in den Kategorien Architektur, Editorial, Mode, Fine Art, General, Natur & Landschaft, Portrait, Produkt, Up and Coming und Hochzeitsfotografie. Zu den Gewinnern zählen auch Nina Berman (Editorial) und Stephan Zirwes (Architektur), die beide bereits zuvor von den Kuratoren der Visual Gallery für Einzelausstellungen ausgesucht wurden.

Jedes Jahr kürt Hasselblad zehn neue Fotografen zu „Hasselblad Masters“. Die ausgewählten Fotografen sind sowohl bekannte, etablierte Fotografen als auch ideenreiche, ambitionierte Fotografen am Anfang ihrer Karriere. Für die „Hasselblad Masters“ wurden aus etwa 3.000 Einsendungen – fast doppelt so viele wie im Vorjahr – 100 Finalisten ausgewählt, unter denen Juroren wie Steve McCurry (USA), Anton Corbijn (Niederlande) und Tim Flach (UK) die Gewinner auswählten. Maßstab waren dabei die Kreativität, Komposition, Konzeption und technische Innovation der Arbeiten.

„Der diesjährige Masters Award war einer der wettbewerbsreichsten in der Geschichte des Programms.“ Christian Nørgaard, Hasselblad Photographer Relations Manager: „Wir waren sehr zufrieden mit der allgemeinen Qualität der eingereichten Beiträge der Kandidaten 2009, das zeigt uns den Respekt und die Anerkennung, die der Masters Award über die Jahre hinweg erlangt hat.“ Nørgaard bemerkte außerdem: „In Anbetracht der außergewöhnlichen Talente der 100 Finalisten, war es sehr schwer, für das internationale Hasselblad Panel lediglich 10 Gewinner auszuwählen.“

Die Hasselblad Masters 2009 sind:

Editorial: Nina Berman, NYC, USA (Einzelausstellung zur Visual Gallery 2008)
Nachwuchspreis: Lyle Owerko, NYC, USA
Portrait: Claudio Napolitano, Miami, USA / Caracas, Venezuela
Fashion: Dirk Rees, London, England
Landschaft: Bang Peng, Hong Kong
Produkt: Mark Holthusen, San Francisco, USA
Fine Art: Alex and Felix, Switzerland
Allgemein: Mark Zibert, Toronto, Canada
Architektur: Stephan Zirwes, Stuttgart, Deutschland (Einzelausstellung zur Visual Gallery 2010)
Hochzeit: Joao Carlos, NYC, USA

photokina 07 / 2010

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